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本文以钛酸四丁酯为钛源,聚乙二醇(PVA)-碘为修饰剂,采用水热制备了碘掺杂介孔TiO2催化剂。利用TG-DTA、FE-SEM、UV-Vis、XRD、BET、XPS等手段对所合成的催化剂进行表征。考察了催化剂在模拟太阳光光照下,对四环素光催化活性。结果表明：PVA加入量为0.8g,KI与I2的质量比为2,煅烧温度为200℃,制备的PVA-I修饰Ti02为锐钛矿介孔材料,比表面积、孔径和孔容分别为221.49 m2·g-1、41.96nm和0.2324cm3·g1,禁带宽度为1.35 eV。介孔Ti02催化剂重复使用4次,四环素的去除率在90%以上。用PVA-I修饰的介孔Ti02作为光催化降解的催化剂,以400W金卤灯为模拟太阳光光源,研究四环素的光催化降解。探讨了反应过程中不同条件、催化剂用量、初始pH、初始浓度和共存离子等对四环素的光催化降解的影响。结果表明：在O.1g·L-1四环素的溶液初始pH值为4,催化剂投加量1g·L-1时,光催化反应60mmin,四环素的去除率达到96.7%,溶液中N03-、SO42-和p043-对四环素的光催化降解有明显的抑制作用。通过对四环素降解的机理分析,推测出四环素光催化降解的两条途径：一是四环素取代基的脱除；二是四环素多环的断裂。利用PVA-I修饰的介孔Ti02催化剂,对四环素、盐酸土霉素、盐酸金霉素、盐酸四环素的光解、吸附和光催化降解研究以及降解过程中溶液毒性分析测定,初步探明不同四环素类抗生素的光催化降解的毒性变化。结果表明：不同结构的四环素类抗生素在低浓度时,光分解率的顺序为四环素>盐酸金霉素>盐酸四环素>盐酸土霉素,催化材料对其吸附顺序为盐酸金霉素>四环素>盐酸四环素>盐酸土霉素,光催化降解顺序为四环素>盐酸四环素>盐酸土霉素>盐酸金霉素。四环素类抗生素的光催化降解是一个解毒的过程,反应前期,反应产物的毒性略有增强,随着降解时间的增长,中间产物的生物毒性逐渐减小。4种抗生素的光催化降解反应动力学均遵循准一级反应动力学。