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研究了用于辅助镀膜的等离子体源(GIS)的结构原理及性能指标，并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手，研究了使用等离子体源所做的单层TiO_2膜和单层SiO_2膜的成膜工艺与质量。研究表明，使用等离子体源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高，更加接近于块状材料，膜层结构比传统沉积手段更加致密，附着力也很高。同时用此项技术沉积了减反射膜，试验结果与理论设计结果相符，达到了理想要求。 对于大口径光学薄膜，讨论了真空镀膜机几何因素对均匀性的影响机制，通过理论计算与实验研究的比较