减反射光学薄膜（减反膜）广泛应用于各类光学器件,在众多制备减反膜的方法中Sol-Gel（溶胶-凝胶）法镀制的SiO2减反膜最具特色。本研究使用溶胶-凝胶法以正硅酸乙酯（TEOS）为硅源,乙醇为溶剂在不同催化剂（盐酸、氨水与Na F）作用下与水反应制备SiO2溶胶并镀制减反膜。首先考察各催化剂单独作用下减反膜的光学性能与机械性能结果如下;通过红外光谱分析盐酸、氨水及Na F单独催化TEOS反应都生成了SiO2颗粒,且化学结构相差不大。盐酸催化制备的溶胶稳定期（可镀制光学性能极佳的减反膜对应的溶胶陈化时间区间）长达333 d以上。其镀制的减反膜光学性能在三种催化剂制备减反膜中最差,最大透过率为95.57%平均透过率为93.75%;机械性能在三种催化剂制备的减反膜中最好,铅笔硬度测试为H。NaF催化效率在三种催化剂中最高,其制备的溶胶稳定期极短（1-3 d）,且对温度敏感。其镀制的减反膜光学性能在三种催化剂制备减反膜中较好,Na F催化减反膜的最大透过率98.19%对应的平均透过率为96.12%,且薄膜表面形貌粗糙相比于光滑表面疏水性好,机械性能在三种催化剂制备的减反膜中较好,铅笔硬度测试为10-8B。氨水催化制备的溶胶的稳定期较短为3-11 d且随氨水加入量的增大而减小。氨催化减反膜在三种催化剂制备的减反膜中有最佳的光学性能。氨催化制得的减反膜最大透过率为98.9%对应的平均透过率为96.65%;机械性能在三种催化剂制备的减反膜中最差,铅笔硬度测试小于10B。然后进一步优化氨水催化制备减反膜（因其具有最佳光学性能）的工艺,包括反应物配比（TEOS、水、乙醇、氨的摩尔比）、反应（陈化）温度与时间等,对SiO2溶胶（溶胶-凝胶反应过程）的影响;减反膜的后处理（退火）对于其光学与机械性能的影响。实验结果表明,增加溶剂及水的加入量可有效延长了氨催化溶胶的稳定期,使之更具工业生产意义。增加水加入量的效果尤其明显,溶胶稳定期延长至大于230 d,且在溶胶稳定期内镀制的薄膜光学优异（最大透过率为99.73%对应的平均透过率为97.2%）。并且可以通过改变浸涂提拉速度,在不同波长下制得有99.5%以上的透过率的薄膜。减反膜机械性能随退火温度的升高单调加强,但其光学性能先提高在退火温度大于250℃后下降。综合考虑光学与机械性能退火处理温度可控制在200-250℃。膜的铅笔硬度由不足10B提高至B。最后为解决单一催化剂制备SiO2溶胶及减反膜工艺中存在的问题,以氨水催化体系为基础引入Na F联合催化,结果表明。氨的存在起协同作用使Na F的催化效率更高。使用Na F与氨水联合催化制备溶胶镀制的减反膜,继承了氨催化与氟催化制备减反膜的优点。制得了最大透过为99.35%平均透过率为97.29%的薄膜,其光学性能优异。且该减反膜的铅笔硬度测试为6-8B（未退火处理）强于氨与Na F单独催化减制备的减反膜,Na F与氨水联合催化制备的减反膜光学性能与机械性能优异,极具应用潜力。