在离子液体中电沉积铝包覆镁粉的研究

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镁作为活泼金属,耐腐蚀性差导致其运输、保存以及应用受到了限制,而常用保护镁的方法主要是针对镁块体,电沉积镀铝保护镁粉鲜有研究,本实验主要是在离子液体中电沉积铝包覆镁粉。实验采取恒电压沉积的方法,考察镁粉未处理以及经离子液体浸泡处理后,温度、时间、电压等因素对沉积结果的影响。采取SEM.EDS.XRD等分析检测手段来表征实验结果。实验结果表明:合适的电镀液配比是n(AlC13):n([Emim]Cl)=2:1;在2.2V低电压下,随着温度的提升,镀层效果越来越好;而在2.6V下,45℃、65℃下得到的镀层都比较致密,且在65℃下的镀层较厚;在3.0V电压,室温、45℃条件下,较低的温度得到的铝比较致密与基体结合的比较好但表面不光滑;在3.6V高电压下,温度从45℃提升到65℃对镀层效果影响不太大;30min较短时间时,3.4V电压过高沉积效果不太好;60min时间时,3.0V电压下镀层的形貌较好:2.2V电压下随着沉积时间的延长,镁能够很好地被铝包覆;2.6V电压下,随着沉积时间的延长铝包覆层变得疏松,沉积效果较差;镁基体与铝镀层之间是相互渗透结合,镀层的厚度大约为13pm。
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