离散环境下过程控制技术的理论研究与仿真分析

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过程控制技术是一种有效的减小过程波动,提高质量的方法。统计过程控制(SPC)与自动过程控制(APC)是目前两种主要的过程控制方法,SPC产生于零件工业(PartsIndustry)而APC产生于过程工业(Process Industry)。长期以来,这两种方法一直独立发展。自1992年以来,SPC与APC的结合逐渐成为一种必然趋势,但目前国内外的研究主要集中于连续型制造业。本文在理论分析的基础上通过仿真的方法研究了离散环境下的结合过程控制技术。在离散环境下结合统计过程控制与自动过程控制的研究中,Run-to-Run控制是一个重要方向。近年来,Run-to-Run控制被广泛应用于实践中并取得了良好效果。目前,国内外对Run-to-Run控制的研究主要集中于结合Run-to-Run控制的控制器。本文首先对SPC与APC结合的控制技术、Run-to-Run控制以及EWMA控制器三者的国内外研究现状做了综述。其次阐述了SPC、APC、SPC与APC结合以及Run-to-Run控制的基础理论。在此基础上,本文论述了结合Run-to-Run控制的EWMA控制技术,采用状态方程针对不同的扰动模型分析了此时EWMA控制器的稳定性与灵敏性,给出EWMA控制器的设计方案。然后根据此研究,提出一种基于经济模型的EWMA控制方案。最后,用计算机仿真的方法,对控制方案的有效性进行证明,并分析了经济模型下EWMA控制器参数的选取。
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