【摘 要】
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软刻蚀是一类以自组装和复制模塑为基础进行微米、纳米微加工的非光刻技术手段.它使用一个表面带有微图形的弹性印章作为印模或掩模来制备尺寸从30nm到50nm范围的微图形或微
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软刻蚀是一类以自组装和复制模塑为基础进行微米、纳米微加工的非光刻技术手段.它使用一个表面带有微图形的弹性印章作为印模或掩模来制备尺寸从30nm到50nm范围的微图形或微结构.软刻蚀的发明有效解决了传统光刻中的上述的诸多问题.到现在,软刻蚀技术已经发展成为六种操作方法:微接触印刷(μCP)、复制模塑(REM)、转移微模塑(μTM)、毛细微模塑(MIMIC)、溶剂辅助微模塑(SAMIM)和近场光刻蚀.该课题的主要目的就是将软刻蚀技术与现今实验室常用的化学合成手段,如溶胶—凝胶方法、有机—无机杂化材料制备、化学溶液沉积以及气相沉积相结合,来制备各种材料的微图形或微结构,并在总结软刻蚀某些缺点的基础上提出了薄层软刻蚀的概念.
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