【摘 要】
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该文利用反应磁控溅射技术,在不同的工艺条件(沉积温度、反应气体分压和基片性质等)下制备了本征硬质薄膜BC、CrNx,、NbN和纳米复合薄膜Nb-Si-N等几种陶瓷薄膜,采用EDX,XRD,T
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该文利用反应磁控溅射技术,在不同的工艺条件(沉积温度、反应气体分压和基片性质等)下制备了本征硬质薄膜B<,4>C、CrNx,、NbN和纳米复合薄膜Nb-Si-N等几种陶瓷薄膜,采用EDX,XRD,TEM,FTIR,HREM,AFM等技术研究了薄膜的成分、相结构、微观结构和生长形貌等,并利用显微力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量等力学性质.
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