【摘 要】
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采用LB技术在石英衬底上制备出ZnO薄膜以及MgxZn1-xO薄膜,研究了ZnO及MgxZn1-xO薄膜的成膜条件和拉膜条件,并对制备的ZnO及MgxZn1-xO薄膜进行了X射线衍射分析(XRD)、紫外-可见光谱(UV-Vis)分析及原子力显微镜(AFM)的表征。对不同层数及不同Mg掺杂量对MgxZn1-xO光学性能的影响进行了探讨。通过LB膜技术,确定了较佳的亚相浓度,滑障速度,铺展液的静置时间
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采用LB技术在石英衬底上制备出ZnO薄膜以及MgxZn1-xO薄膜,研究了ZnO及MgxZn1-xO薄膜的成膜条件和拉膜条件,并对制备的ZnO及MgxZn1-xO薄膜进行了X射线衍射分析(XRD)、紫外-可见光谱(UV-Vis)分析及原子力显微镜(AFM)的表征。对不同层数及不同Mg掺杂量对MgxZn1-xO光学性能的影响进行了探讨。通过LB膜技术,确定了较佳的亚相浓度,滑障速度,铺展液的静置时间,铺展量;在适宜的转移膜压、基片向上提拉速度、向下浸入速度,可获得转移比在1.0附近,性能稳定的硬脂酸/
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