二维结构的二硫化钼（MoS₂）是层与层之间存在着微弱范德华力的层状材料。由于MoS₂这种特殊属性,使其具有良好的摩擦性能。本文从纳米摩擦学角度研究探针磨损和光辐照对其摩擦性能的影响。在探针磨损方面,采用先进的扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）,探究了探针针尖半径在摩擦实验阶段对MoS₂样品表面摩擦力、粘附力和临界剪切应力测量准确性的影响。在激光辐照方面,采用原子力显微镜研究了波长和强度对MoS₂纳米片摩擦性能的影响。研究MoS₂纳米片摩擦性能受探针磨损及光辐照的影响规律,对指导MoS₂应用于实际生产具有重要意义。具体的研究内容和结果如下:（1）利用改善化学气相沉积（CVD）的工艺参数方法来制备MoS₂纳米片,成功获得了较完好的少层的二维MoS₂纳米片。（2）利用光纤将激光光源导入到AFM测试环境中,搭建了光照条件下MoS₂样品摩擦性能实验装置。（3）利用SEM测量不同滑动距离等距取样点的探针针尖半径,采用原子磨损模型获得全滑移过程的针尖半径值。验证了原子磨损模型较Archard模型更适合描述针尖半径随滑动距离变化的过程。并在B-JKR模型下探针磨损过程中临界剪切应力的理论修正值。（4）二硫化钼纳米片在激光辐照下,发现奇数层纳米片表面摩擦力相对于光照前均减小,偶数层纳米片表面摩擦力相对于光照前均增大。（5）随着激光辐照强度的增加,奇数层MoS₂摩擦力的减小幅度逐渐增大;偶数层MoS₂摩擦力的增加幅度逐渐增大。