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微晶硅薄膜材料具有电导率高、光照稳定性好和较宽的光谱响应等优点，是近年来热门的太阳电池材料。本文采用甚高频等离子增强化学气相沉积技术（VHF-PECVD）制备微晶硅薄膜研究了微晶硅薄膜的制备工艺，并对微晶硅太阳电池的制备进行了初步研究，研究内容和结果如下：研究了硅烷浓度、衬底加热温度、辉光功率和沉积时间对微晶硅薄膜的结构和性能的影响。研究表明，随硅烷浓度增加，薄膜的暗电导降低，光敏性增加，晶化程度下降，硅烷浓度为4%~5%的区间是微晶硅/非晶硅的过渡区；衬底加热温度增加，薄膜的暗电导增加，光