【摘 要】
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本文主要应用JEM-100CXⅡ型透射电镜研究在铜基材上、负偏压1500伏时、磁控溅射离子镀铝膜的组织与相结构。磁控溅射离子镀(简称“CLD”),是以磁控溅射力镀材蒸发源、进行离
【机 构】
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本文主要应用JEM-100CXⅡ型透射电镜研究在铜基材上、负偏压1500伏时、磁控溅射离子镀铝膜的组织与相结构。磁控溅射离子镀(简称“CLD”),是以磁控溅射力镀材蒸发源、进行离子镀的一项最新物理气相沉积表面技术。它是在“中低真空”下(铜基镀铝时2×10~(-3)Torr),利用A_r~+气电离作用使从靶上被溅射下来的铝,离
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