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采用电镀铬法在氢化锆表面制备了氢渗透阻挡层,分析了电镀工艺参数对镀层生长的影响,并对镀层的阻氢效果进行检测。结果表明,镀层厚度与电流密度成正比,最佳的电流密度应控制在3.6~4.6 A.dm-2之间,镀层由颗粒状铬沉积而成,镀层具有一定的防氢渗透作用。
氢化锆表面电镀铬制备防氢渗透涂层的研究
【摘 要】
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采用电镀铬法在氢化锆表面制备了氢渗透阻挡层,分析了电镀工艺参数对镀层生长的影响,并对镀层的阻氢效果进行检测。结果表明,镀层厚度与电流密度成正比,最佳的电流密度应控制
【机 构】
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北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所,北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所北京100088,北京100088
【出 处】
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稀有金属
【发表日期】
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2007年S1期
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