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EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法
EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:szxszxszy
【摘 要】
:
激光图形发生器是半导体掩膜制版的主要设备之一,它具有精度高、结构复杂、操作简单和生产效率高等特点,但是,其光栏精度对加工的版图精度有很大的影响.文章根据光栏的结构原
【作 者】
:
邓建国
刘玉奎
印子华
邹昭伟
【机 构】
:
中国电子科技集团公司
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2005年6期
【关键词】
:
半导体设备
激光图形发生器
光栏
Semiconductor equipment Laser pattern generator Diaphragm
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激光图形发生器是半导体掩膜制版的主要设备之一,它具有精度高、结构复杂、操作简单和生产效率高等特点,但是,其光栏精度对加工的版图精度有很大的影响.文章根据光栏的结构原理和实际应用,详细阐述了EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法.
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