扫描速率对硅表面分子沉积膜纳米摩擦特性的影响

来源 :化学研究与应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户：Liuyuly

【摘要】

：

本研究小组曾简要报道过扫描速率对Au衬底表面分子沉积膜(MD)的纳米摩擦特性的影响[1],本文利用原子力显微镜(AFM)研究了硅表面、羟基化硅表面、氨丙基硅烷(aminopropylsilan

【作者】

：

高芒来聂时春张嗣伟

【机构】

：

石油大学化工学院,中国石化长城润滑油集团有限公司,石油大学机电学院

【出处】

：

化学研究与应用

【发表日期】

：

2003年5期

【关键词】

：

扫描速率硅表面分子沉积膜纳米摩擦特性磺化酞菁铜 scan rate silicon surface molecular deposition films

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本研究小组曾简要报道过扫描速率对Au衬底表面分子沉积膜(MD)的纳米摩擦特性的影响[1],本文利用原子力显微镜(AFM)研究了硅表面、羟基化硅表面、氨丙基硅烷(aminopropylsilanized简称APS)化硅表面及硅衬底上磺化酞菁铜(CuTsPc)单层MD膜表面的摩擦力随针尖扫描速率变化的规律.

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