【摘 要】
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本实验采用二硼烷(B_1H_6)和氨气(NH_(?)),在388～700℃下进行低压化学汽相淀积生成含有硼、氮、氢的膜(B_(1～3)NH),用于X光曝光掩模的基底.已测得膜的各种特性如淀积速率、电阻
【机 构】
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中国科学院微电子中心,中国科学院微电子中心,中国科学院微电子中心 北京,北京,北京
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本实验采用二硼烷(B_1H_6)和氨气(NH_(?)),在388～700℃下进行低压化学汽相淀积生成含有硼、氮、氢的膜(B_(1～3)NH),用于X光曝光掩模的基底.已测得膜的各种特性如淀积速率、电阻率、元素成份比、晶型、折射率、红外吸收光谱、应力变化、对光的透射率、化学不活泼性及等离子腐蚀速率等.
In this experiment, boron (B 1 H 3) NH 4 (B 3 H 6) and hydrogen (B 3 H 6) were synthesized by low pressure chemical vapor deposition at 388 ~ 700 ℃ using diborane , A substrate for X-ray exposure masks Various properties of the film such as deposition rate, resistivity, elemental composition ratio, crystalline form, refractive index, infrared absorption spectrum, stress change, transmittance to light, Chemical inertness and plasma corrosion rate.
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