脉冲软X射线源及光刻的初步研究

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喷气式Z箍缩等离子体装置产生的软X射线,波长大约在0.2~0.6um之间,一次放电产生的软X射线能量约50J。本文利用此软X射线源,用金属丝网作为掩模,对CSM光刻胶进行了曝光的初步实验研究,得到了较为清晰的曝光图形。 The soft X-ray generated by the jet Z-pinch plasma device has a wavelength of about 0.2-0.6um and the soft X-ray energy generated by one discharge is about 50J. In this paper, we use the soft X-ray source, the metal mesh as a mask, the preliminary study of CSM photoresist exposure, get a more clear exposure pattern.
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