【摘 要】
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基模激光光源的光强高斯分布,使得激光标线器的线斑光强分布不均匀.提出了一种用TEM20,TEM40类的高阶模光源代替基模光源的方法.这类高阶模的一个正交方向上的光强分布为几个
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,中国科学院研究生院
【基金项目】
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国家高技术研究发展计划(863计划)
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基模激光光源的光强高斯分布,使得激光标线器的线斑光强分布不均匀.提出了一种用TEM20,TEM40类的高阶模光源代替基模光源的方法.这类高阶模的一个正交方向上的光强分布为几个高斯轮廓的叠加,相对于基模光强的单个高斯分布提高了均匀性.当相邻两高斯分布间间距越小时,高阶模光强分布越均匀.实验通过使激光二极管(LD)相对于腔模轴线横向偏离得到高阶模.通过对横向偏距的精确控制,来控制相邻高斯分布的间距.在激光标线器1 m工作距离处,分别在基模和高阶模作为光源的情况下测得线斑光强数据.数据表明,高阶模光强分布的多瓣叠加特性能提高线斑的光强分布均匀性.
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