电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

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采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极.考察了制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响.结果表明:沉积电位-0.45V(相对于饱和甘汞电极)、沉积时间1600s、烧结温度400℃时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂(如甲酸和升高溶液pH值,有利于光电流输出.在阳极室溶液组成为0.5mol/dm3 Na2SO4+0.5mol/dm3 HCOOH(pH9.6)时,WO3薄膜电极在可见光光照下可对4mol/dm3 NaCl溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀,为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径.
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