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1 引言近年来,随着碲镉汞(HgCdTe或MCT)红外焦平面(IRFPA)技术的快速发展,器件对材料的电学性质、面积和均匀性等参数的要求迅速提高.
MBE生长HgCdTe材料的As掺杂退火的研究
【摘 要】
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1 引言近年来,随着碲镉汞(HgCdTe或MCT)红外焦平面(IRFPA)技术的快速发展,器件对材料的电学性质、面积和均匀性等参数的要求迅速提高.
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所
【出 处】
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红外
【发表日期】
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2003年5期
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