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本文从集成电路立法保护的核心、布图设计立法保护的"交叉"模式以及此模式对计算机软件保护的启发意义三个方面进行了论述,并得出结论:布图设计立法保护的"交叉"保护模式适应并促进了集成电路工业的发展,同样具有"交叉"性特点的计算机软件也应当按照这种"交叉"保护模式单独创建一部单行法规.
对集成电路布图设计立法保护模式的分析与思考
【摘 要】
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本文从集成电路立法保护的核心、布图设计立法保护的"交叉"模式以及此模式对计算机软件保护的启发意义三个方面进行了论述,并得出结论:布图设计立法保护的"交叉"保护模式适应
【机 构】
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华中师范大学信息技术系
【出 处】
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高等函授学报：自然科学版
【发表日期】
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2002年2期
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