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采用直流磁控溅射技术制备了厚度为600-1600nm的ZnO薄膜，利用XRD对薄膜的相结构进行了分析，利用薄膜应力分析仪对薄膜的应力进行了分析。结果表明：所有的薄膜都沿（002）方向高度择优。随着薄膜厚度的增加，ZnO薄膜的晶体质量得到提高，各种缺陷逐渐减小；ZnO薄膜的内应力为压应力；随着厚度的增加，ZnO薄膜的平均应力逐渐减小，并且应力分布趋于均匀。