【摘 要】
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采用简单的方法合成高浓度氨基修饰的高度有序氧化硅材料并深入研究氨基官能化材料的孔结构以及氨基的存在状态和可利用性.结果表明,氨基基团共价连接到SBA-15的孔表面,即使
【机 构】
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北京工业大学材料科学与工程学院,北京服装学院北京市服装材料研发与评价重点实验室
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采用简单的方法合成高浓度氨基修饰的高度有序氧化硅材料并深入研究氨基官能化材料的孔结构以及氨基的存在状态和可利用性.结果表明,氨基基团共价连接到SBA-15的孔表面,即使初始合成体系中的APTES(氨丙基三乙氧基硅烷)浓度高达30mol%时材料依然保持高度的有序性.合成体系中APTES浓度为20%的样品还保持良好的介孔结构,比表面积为680 m2·g-1,孔容为0.89 cm3·g-1,此介孔结构中的氨基官能团对镍离子表现出很强的亲和力,Ni2+的吸附量高达1.88 mmol·g-1,相比之下未官能化的SBA-15对Ni2+没有吸附作用.当初始合成体系中APTES的浓度进一步增大到30%时,修饰到介孔氧化硅材料的氨基含量也随之增大,但由于材料的孔隙度急剧降低,这些氨基的可利用性也降低.
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