pH值对电沉积法制备Ni—P非晶态合金镀层热稳定性的影响

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本文研究了用不同pH值的镀液进行电沉积时制备的Ni-P非晶态镀层,其镀层中磷的含量随pH值的增大而减小.用差示扫描量热法(DSC)对各非晶态Ni-P镀层进行动力学分析,其晶化活化能数据表明,pH=6.50条件下制备的镀层较为稳定,它们的晶化机理可能为Avrami-Erofeev方程的核生成和核生长(n=1).动力学方程为:dx/dt=Ae-E/RT(1-α)
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