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本文采用脉冲激光，在Si（001）衬底上生长ZnO薄膜，利用X射线衍射（XRD），原子力显微镜（AFH）等测试手段研究了不同氧气压力所生长的ZnO薄膜结构特征。研究表明：氧压不同制备的ZnO薄膜质量也不同。在不同的氧气压力下（0Pa～50Da）生长ZnO薄膜，XRD表明10Pa的氧压时有较强的（002）衍射峰和较小的半高宽。