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氮化钨(W2N)薄膜是具有优异机械性能的硬质过渡金属氮化物,在保护涂层、扩散势垒层等领域具有广泛的应用。本文采用磁控溅射法,分别在Si(100)、A304不锈钢衬底上成功制备了结晶良好的W2N薄膜。为了改善W2N薄膜的力学和摩擦学性能,采用射频和直流共溅射方法制备了软质金属Y和硬质金属Cr共掺杂的W2N(Y-Cr:W2N)薄膜。在掺杂功率为30W时,具有硬度最大值为23.71GPa,此时样品的弹性模量为256.34GPa。平均摩擦学系数也有所降低。在掺杂功率为20W时薄膜具有最小的磨损率为2.062