等离子处理时TiN—MoSx／Ti涂层中S大量刻蚀的XPS分析

来源 :北京理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：afdwer213

【摘要】

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采用XPS对TiN-MoSx/Ti复合膜表面S被Ar+大量刻蚀后化学组成及摩擦学性能的变化机理进行了研究.长时间离子轰击后复合膜表层的化学计量值x从最初的2.03降至1.25,Mo 3d5/2的结

【作者】

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荆阳周兰英庞思勤

【机构】

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北京理工大学

【出处】

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北京理工大学学报

【发表日期】

：

2001年6期

【关键词】

：

TiN-MoSx/Ti 复合涂层 X射线光电子能谱离子刻蚀复合薄膜氮化钛等离子处理摩擦性能化学组成 TiNMoSx/Ti composite coa

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采用XPS对TiN-MoSx/Ti复合膜表面S被Ar+大量刻蚀后化学组成及摩擦学性能的变化机理进行了研究.长时间离子轰击后复合膜表层的化学计量值x从最初的2.03降至1.25,Mo 3d5/2的结合能从231.73eV相应减小到231.07eV.刻蚀5min后的涂层表面为深黑色的致密结构,摩擦学性能优异;而刻蚀15min后的涂层表面为浅灰色的疏松结构,且摩擦磨损性能也大幅下降.

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