NLDMOS器件性能优化及分析

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提出一种改善n型横向双扩散金属氧化物半导体(NLDMOS)器件性能的工艺方法。该方法基于某公司0.18μm标准工艺流程, 通过在NLDMOS的共源处增加一道离子注入, 引出衬底电荷, 以优化NLDMOS器件的击穿电压(Vb)与比导通电阻(Rsp)。选择不同的注入离子浓度与快速热退火时间, 研究了器件的Vb与Rsp变化。由于离子激活效率不足, 单纯增加20%的注入离子浓度, 器件的耐压性能提升极小, 采用增加20%注入离子浓度结合延长20s快速热退火时间的方法, NLDMOS器件的Vb提高约2.7%, 同时Rsp仅增加0.9%左右。
其他文献
研究了氧化石墨烯(Graphene Oxide, GO)修饰的色散拐点长周期光纤光栅(Dispersion-Turning-Point Long Period Fiber Grating, DTP-LPFG)传感器, 分析了其光谱特性及对外部折射率的灵敏度特性。利用准连续KrF激光器在载氢单模石英光纤上制作周期约为136μm的DTP-LPFG, 采用氢键结合的方式将GO涂覆于光栅表面, 构成基于GO修饰的DTP-LPFG传感器。实验结果表明:随着GO在DTP-LPFG表面的沉积, 其双谐振峰的左峰发生蓝移
本文提出了一种新颖的、应用于高功率激光器的复合谐振腔——大孔耦合输出的虚共焦非稳腔。对这种腔的设计作了细致的分析,并给出设计方法。同时对该腔的激光模式进行了理论和实验研究,理论和实验结果相吻合。输出的最大激光功率为750 W,相应的光电转换效率为8.0%,输出激光的远场发散角为1.73 mrad。
本文提出了白光图象处理的一种新方法——散斑调制屏法。基于漫射相干光的散斑效应,制作一种名叫散斑调制屏的光学编码元件,此屏在光学图象处理中有广泛的应用和明显的优点。文章还给出了彩色图片存储和灰阶图片的等密度假彩色编码两个实验。
期刊
通过在光纤消逝场间的耦合作用中引入光栅折射率调制扰动,推导出用于分析各种光纤光栅耦合器型滤波器滤波响应特性的统一耦合模方程。使用Broyden迭代结合打靶法求解耦合模方程,数值计算了两光纤匹配﹑只将光栅写入耦合区的一个光纤上时的光栅破坏耦合器型上下话路滤波器各端口的滤波响应特性。详细地分析了光栅参数对下话路反射率和带宽特性的影响,讨论了耦合区长度及光栅写入位置对下话路滤波响应和透射响应的影响,并使用高斯切趾改善滤波响应。通过优化参数,可以使光栅破坏耦合器型上下话路滤波器达到99%的下话路效率。
研制在光谱的可见光区域以外的短波长振荡器和放大器,是目前量子电子学的一个有前途的发展方向。这种器件在控制化学反应、对微,物体进行全息照相研究及研究高能光子与物质的相互作用方面,将会得到广泛的应用。最近出现了一些有关制造真空紫外波段(波长λ
期刊
现有的工业摄影测量系统通常需要在被测物表面布设一定数量的编码点,但是许多工业产品表面并不具备布设编码点的条件。为此,提出一种无需布设编码点的工业摄影测量的实现方法。该方法只需利用一台向被测物投射散斑纹理的投射装置、一把恢复尺度的标尺,以及一台能对被测物体多角度拍摄的相机。为了完成高精度的多视图几何框架的求解,采用一种"由粗到精"的两步重建策略,并提出一种带旋转补偿的数字图像相关(RFDIC)方法来
通过纯氩的连续和脉冲可见激光作用,在兰区域和绿区域获得相于辐射。在此以前绿光是由光束和某些物质的谐波相互作用而得。
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A diode-pumped cryogenic-cooled Yb:YAG regenerative amplifier based on the thin disk concept, producing 14.2-mJ, 10-ns pulses with optical-to-optical conversion efficiency of ~7% at a repetition rate of 10 Hz at 163 K, is presented.
Short-wave infrared (SWIR) detectors combining AlAs/In0.53
利用单光束扫描法研究了球状电介质悬浮液的非线性光学性质,对直径为0.059 μm,浓度为2.5%的聚苯乙烯悬浮液的非线性光学系数n2进行了测量,给出n2值为4.3×10-9 cm2/W.从实验中得出这种悬浮液中n2引起的折射率变化远大于热效应引起的折射率变化.