【摘 要】
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针对多层Cu布线化学机械抛光后去除表面吸附颗粒时难以解决的氧化腐蚀问题，分析了颗粒在抛光后Cu表面上存在的两种吸附状态即物理吸附和化学吸附。采用在清洗剂中加入非离子表
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针对多层Cu布线化学机械抛光后去除表面吸附颗粒时难以解决的氧化腐蚀问题，分析了颗粒在抛光后Cu表面上存在的两种吸附状态即物理吸附和化学吸附。采用在清洗剂中加入非离子表面活性剂的方法，使Cu表面的颗粒处于易清洗的物理吸附状态；为解决由于Cu在停止化学机械抛光后，具有高能的新加工表面被残留抛光液继续氧化和腐蚀，影响清洗效果的问题，采用在清洗剂中添加防蚀剂BTA的方法在Cu表面形成Cu-BTA单分子致密膜，有效控制了表面氧化和腐蚀。利用光学显微镜对采用不同清洗剂清洗过的Cu表面进行观察分析，发现在清洗剂中添加表
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