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利用电化学阻抗谱和极化曲线研究了硫脲、烯丙基硫脲、苯基硫脲在金属铜表面上的自组装膜的质量和缓蚀效率，并通过量子化学计算进一步研究了各种分子和金属铜的相互作用．结果表明硫脲类分子在金属铜表面上的成膜能力顺序为：苯基硫脲〉烯丙基硫脲〉硫脲，并揭示了分子结构对硫脲类化合物在金属铜表面自组装影响的本质，为进一步寻找和制备优良的缓蚀功能自组装膜提供理论依据．