【摘 要】
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为充分发挥类金刚石薄膜的优良特性,促进其广泛应用,分析了DLC碳膜结构特点、优良性质及应用现状,综述了类金刚石薄膜的几种常见制备方法:等离子增强化学气相沉积法(PECVD)、脉冲激光沉积法(PLD)、磁过滤阴极真空电弧法(FCVA)、磁控溅射法(MS)。分析了常用元素的掺杂改性手段,比较了不同制备方法的优缺点,总结了不同制备方法技术成熟度,展望了DLC碳膜未来应用前景和发展方向。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十九研究所
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为充分发挥类金刚石薄膜的优良特性,促进其广泛应用,分析了DLC碳膜结构特点、优良性质及应用现状,综述了类金刚石薄膜的几种常见制备方法:等离子增强化学气相沉积法(PECVD)、脉冲激光沉积法(PLD)、磁过滤阴极真空电弧法(FCVA)、磁控溅射法(MS)。分析了常用元素的掺杂改性手段,比较了不同制备方法的优缺点,总结了不同制备方法技术成熟度,展望了DLC碳膜未来应用前景和发展方向。
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