【摘 要】
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研究了高温工作环境下Ti/Al/Ni/Au（15 nm/220 nm/40 nm/50 nm）四层复合金属层与n-GaN（Nd= 3.7×10^17cm^-3,Nd=3.0×10^18cm^-3）的欧姆接触特性,试验结果标明,当测量温度
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研究了高温工作环境下Ti/Al/Ni/Au（15 nm/220 nm/40 nm/50 nm）四层复合金属层与n-GaN（Nd= 3.7×10^17cm^-3,Nd=3.0×10^18cm^-3）的欧姆接触特性,试验结果标明,当测量温度低于300℃时,存储时间为0～24h,其接触电阻率基本不变,表现出良好的温度可靠性;分别经过300、500℃各24h高温存储后,其欧姆接触发生了较为明显的退化,且不可恢复.接触电阻率均随测量温度的增加而增大,掺杂浓度越高,其接触电阻率随测量温度的升高缓慢
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