【摘 要】
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采用恒电流电化学技术直接在金属钼（Mo）或钨（W）片上制备了白钨矿钼酸盐、钨酸盐AMO4（A—Ba、Sr、BaxSr1-x、BaxSryCa1-x-y；M—W、Mo）晶态薄膜，制备时间分别为从薄膜开始生长到薄膜生
【机 构】
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四川大学材料科学与工程学院材料科学系
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采用恒电流电化学技术直接在金属钼（Mo）或钨（W）片上制备了白钨矿钼酸盐、钨酸盐AMO4（A—Ba、Sr、BaxSr1-x、BaxSryCa1-x-y；M—W、Mo）晶态薄膜，制备时间分别为从薄膜开始生长到薄膜生长结束的不同时间间隔。利用场发射扫描电镜（FESEM）和电子能谱仪（EDX）等测试手段，分别对这些薄膜的生长特性进行了测试，并对测试结果进行了对比分析。结果表明，利用电化学技术制备白钨矿薄膜时，金属基片在不断的溶解；由于负离子配位多面体的沉积、构架和阳离子的不断填充，完成晶核的形成和晶粒的长大；随
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