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采用单槽控电位双脉冲技术在n—Si（111）晶面上制备了[Ni80Fe20／Cu]n多层膜，用SEM观测了多层膜的断面形貌，利用X射线衍射（XRD）表征了多层膜的超晶格结构。采用四探针法研究了多层膜的巨磁电阻（GMR）性能，结果表明，多层膜的GMR值随着Cu层厚度的变化发生周期性振荡，随着NiFe层厚度的增加先增大后减小；当样品结构为[NiFe（1．6nm）／Cu（2．6nm）]80时，GMR值可达6．4％；多层膜的最低饱和磁场仅为7500e。磁滞回线测试结果表明，反铁磁耦合多层膜具有较小的矩形比，更适宜