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用射频反应溅射的方法制备了TiN薄膜，其晶体结构与电阻率都与溅射气氛中N2分量有直接关系。随着N2分量由5％增加到50％，薄膜先是呈现（111）的择优取向，后是呈现（200）的取向，最后没有衍射峰出现，结构趋于无定型，于此同时，电阻率也由接近金属的良好导电性变为半导体的导电性。
射频反应溅射中N2分量对TiN薄膜性质的影响
【摘 要】
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用射频反应溅射的方法制备了TiN薄膜，其晶体结构与电阻率都与溅射气氛中N2分量有直接关系。随着N2分量由5％增加到50％，薄膜先是呈现（111）的择优取向，后是呈现（200）的取向，最后没有衍射峰
【机 构】
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武汉大学声光材料与器件教育部重点实验室,中国科学院传感技术国家联合重点实验室
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2007年A06期
【基金项目】
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基金项目：湖北省自然科学基金资助项目（2006ABA215）
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