【摘 要】
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以CH4和Ar为工作气体,单晶硅为溅射靶,通过微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射方法在不同的CH4流量和沉积温度下制备了a-Si1-xCx∶H薄膜.利用傅里叶变换红外（F
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以CH4和Ar为工作气体,单晶硅为溅射靶,通过微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射方法在不同的CH4流量和沉积温度下制备了a-Si1-xCx∶H薄膜.利用傅里叶变换红外（FT-IR）光谱,X光电子能谱（XPS）和纳米硬度仪等表征方法研究不同沉积参数下薄膜的化学结构、化学配比和硬度的变化.结果表明：室温（25℃）下随CH4流量由5cm·3min-1增加到45cm3·min-1（标准状态）时,薄膜中Si—CH2键,C—H键含量逐渐增加,Si—H键变化不明显;膜中C原子
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