用PLD法制备声表面波器件用ZnO薄膜

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fado

【摘要】

：

采用脉冲激光淀积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上淀积了ZnO薄膜.XRD、TEM和AFM分析表明,淀积的ZnO薄膜具有良好的c轴取向性和表面平整度.通过改变淀积气氛或在纯氧中高温退火,Zn

【作者】

：

刘彦松王连卫李伟群黄继颇林成鲁

【机构】

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中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2001年1期

【关键词】

：

脉冲激光淀积压电性声表面波器件氧化锌薄膜 Acoustic surface wave devicesPiezoelectricityPulsed lase

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采用脉冲激光淀积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上淀积了ZnO薄膜.XRD、TEM和AFM分析表明,淀积的ZnO薄膜具有良好的c轴取向性和表面平整度.通过改变淀积气氛或在纯氧中高温退火,ZnO薄膜的电阻率提高到107Ω@cm.这些结果表明,用PLD法淀积的ZnO薄膜能够满足声表面波(SAW)器件的需要.

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