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利用甲烷／氢微波等离子体CVD工艺在纯钛基底上沉积纳米金刚石薄膜

来源 :超硬材料工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：A578964735

【摘 要】

：

与微米金刚石薄膜不同,纳米金刚石薄膜表面平滑.因此,在摩擦学应用领域中,纳米金刚石薄膜是最理想的.本研究利用CH4/H2微波等离子体CVD工艺在纯钛上沉积出纳米金刚石薄膜和微

【作 者】

：

林澈文 蒋修治（译） 

【出 处】

：

超硬材料工程

【发表日期】

：

2005年5期

【关键词】

：

纳米金刚石 沉积薄膜 微波等离子体CVD 纯钛基底 表面粗糙度 

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与微米金刚石薄膜不同,纳米金刚石薄膜表面平滑.因此,在摩擦学应用领域中,纳米金刚石薄膜是最理想的.本研究利用CH4/H2微波等离子体CVD工艺在纯钛上沉积出纳米金刚石薄膜和微米金刚石薄膜.采用的沉积条件为:沉积温度约为1173K;沉积压力为8.0kPa;CH4浓度在0.5 mol%和5 mol%之间变化;沉积时间则从4h到12h不等.金刚石薄膜表面用扫描电镜(SEM)观察.在激光拉曼光谱中,微米金刚石薄膜在1332cm-1处有sp3键碳的锐峰.1140cm-1附近的光谱带与纳米金刚石薄膜的特征有关.并用X

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