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利用ＳＵＰＲＥＭ进行半导体集成电路工艺条件的萃取是工艺模拟的主要用途之一。本文介绍如何利用适当折算法进行工艺条件的自动萃取。在这篇论文里，介绍了预淀积工艺、离子注入工艺和氧化／再分布工艺的算法结构，并且讨论了算法的实现过程和算法实现环境。
利用SUPREM进行工艺条件萃取
【摘 要】
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利用ＳＵＰＲＥＭ进行半导体集成电路工艺条件的萃取是工艺模拟的主要用途之一。本文介绍如何利用适当折算法进行工艺条件的自动萃取。在这篇论文里，介绍了预淀积工艺、离子注入工艺和氧化
【机 构】
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东南大学电子工程系
【出 处】
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电子器件
【发表日期】
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1995年3期
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