CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF DIFFUSION BARRIERS FOR ADVANCED METALLIZATION

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【摘要】

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IntroductionWhen Jack Kilby of Texas instrUmentS built theworld's first integrated circuit in 1958, the devicecontains only one transistOr Since then, integ

【出处】

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化工学报

【发表日期】

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2000年S1期

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IntroductionWhen Jack Kilby of Texas instrUmentS built theworld's first integrated circuit in 1958, the devicecontains only one transistOr Since then, integratedcircuitS have enjoyed tmpendous success in bothtechnology and business. The number of '

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