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报道了采用PECVD薄膜沉积技术制备的大电流、高开关比非晶硅薄膜二极管,在制备工艺温度低于200℃下,获得正向电流密度大于50 A/cm-2,±3 V偏压时开关比接近105的优质非晶硅薄膜二极管,完全符合三维集成电路(3D-IC)中三维只读存储器(3D-ROM)的要求.文中介绍了pin型二极管的结构设计和制造条件,并讨论了本征层材料厚度和微结构、界面匹配、电极材料等因素对二极管正、反向电流特性的影响.