【摘 要】
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化学镀是一种在电子科学与技术领域中常用的器件表面处理技术。在铁合金基体表面进行化学镀铜，铜镀层主要用于多层镀覆时的“底”层，其作用是提高基体金属与表面或（或中间）镀层的
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化学镀是一种在电子科学与技术领域中常用的器件表面处理技术。在铁合金基体表面进行化学镀铜，铜镀层主要用于多层镀覆时的“底”层，其作用是提高基体金属与表面或（或中间）镀层的结合力，同时也有利于表面镀层的沉积，当铜镀层无孔时，可提高表面镀层的抗蚀性和结合强度。因此，研究适合于铁合金基体的化学镀铜并提高镀层性能具有重要的意义。本论文以铁合金为基体材料，在镀液体系中加入添加剂SPS、PEG-6000、HIQSA，考察不同剂量的添加剂对沉铜速率及镀层表面的影响。
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