基于0.5μmBCD工艺的双向SCR结构的ESD保护设计

来源 :浙江大学学报(工学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:qdgong
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针对双向可控硅(DDscR)在特征尺寸不断缩小的集成电路中,难以达到窄小静电放电(EsD)设计窗口的ESD防护需求,设计一种PMOS内嵌型浮栅DDSCR(GFDDSCR)ESD保护器件,并基于0.5mBipolar-CMOS-DMOS工艺进行制备.利用传输线脉冲测试研究不同关键尺寸的GFDDSCR的ESD特性及单位面积ESD防护能力,分析器件ESD特性随关键尺寸变化的规律,得到优化的GFDDSCR的结构参数.结果表明,与DDSCR的改进型结构(IBDSCR)相比,优化的GFDDSCR触发电压下降了27%,
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