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Fabrication of low-loss SiO2/Si channel waveguides by roughness reduction
【机 构】
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YangtzeDeltaRegionInstituteofTsinghuaUniversity,StateKeyLaboratoryofLaserTechnology
【出 处】
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高技术通讯：英文版
【发表日期】
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2006年4期
【基金项目】
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Supported by the Zhejiang Science and Technology Plan Project （grant No. 2004E60062）
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