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利用波长为351nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器，采用双光束干涉方法，对蒸镀在石英玻璃衬底上的铬薄膜直接刻蚀形成微光栅结构的方法进行了实验研究．通过实验，分析了激光能量和脉冲数与微光栅结构槽形和一级衍射效率之间的关系．利用光学显微镜和原子力显微镜检测分析光栅槽形，测得槽深为253nm的最佳微光栅结构，并测得其在波长为532nm的激光的一级衍射效率为6．5％．结果表明：在激光能量为1150μJ时，适当增加曝光脉冲数有利于提高制备光栅的槽深和一级衍射效率．