光刻技术《激光与光电子学进展》

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<正>光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径则从初期的0.28增大到干式光刻机的0.93,再到浸液式光刻机的1.35。通过组合使用光学邻近效应校正、光源掩模联合优化、多重图形等分辨率增强技术,光刻工艺因子已突破其理论极限0.25。不断涌现的新技术、新工艺、新材料、新设备使得光刻技术水平不断提升,集成电路特征尺寸不断减小,目前已逼近尺寸微缩的物理极限。为了集中展示国内外该领域的最新研究进展,促进学术交流,推动相关领域的发展,《激光与光电子学进展》决定在2022年第9期(5月)推出"光刻技术"专题,现公开征集该领域的高水平研究论文和综述文章。
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