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针对A15型超导磁体真空压力浸渍的实际需要,研究了超导磁体真空压力浸渍(VPI)的过程,并以渗流力学为基础对超导磁体恒温立式VPI动态过程进行了建模计算。由于浸渍树脂的流变特性会随时间变化,因此浸渍需要考虑到浸渍树脂的动态变化。对于浸渍中经常使用的两种低温性能良好的环氧树脂—DW3型和CTD101K型,采用流变仪对其流变特性进行了测量并以Arrhenius模型建立了固化模型。将树脂的固化模型带入恒温立式VPI动态模型进行计算,计算结果表明,浸渍区域的半径、浸渍温度、浸渍用环氧的种类和浸渍时间等因素都会影响到浸渍的最终结果。