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期刊论文
溅射薄膜压力传感器敏感元件的制作工艺研究
溅射薄膜压力传感器敏感元件的制作工艺研究
来源 :机械制造与自动化 | 被引量 : 0次 | 上传用户:benben8383
【摘 要】
:
磁控溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能薄膜材料的重要手段。采用掩膜法溅射的方法制作薄膜压力传感器敏感元件的电阻层,发现了掩膜法溅射在制作小间距线宽
【作 者】
:
蒋传生
章恺
【机 构】
:
南京航空航天大学机电学院
【出 处】
:
机械制造与自动化
【发表日期】
:
2016年04期
【关键词】
:
溅射薄膜
压力传感器
敏感元件
制作工艺
电阻层
光刻
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磁控溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能薄膜材料的重要手段。采用掩膜法溅射的方法制作薄膜压力传感器敏感元件的电阻层,发现了掩膜法溅射在制作小间距线宽的弊端,引入了先溅射后光刻的制作工艺,实验结果表明,该方法能成功制作出所需的电阻图形。
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