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三波长光干涉法测量磁盘/磁头纳米级气膜厚度
三波长光干涉法测量磁盘/磁头纳米级气膜厚度
来源 :润滑与密封 | 被引量 : 0次 | 上传用户:only_xin
【摘 要】
:
给出三波长光干涉测量纳米级薄膜厚度的方法。通过对某负压磁头/玻璃盘空气薄膜的测试表明:三波长光干涉法具有精度高、容易实施等优点,能够满足磁盘/磁头润滑副设计、制造及研究
【作 者】
:
王红志
黄平
【机 构】
:
华南理工大学机械工程学院,深圳大学工程技术学院
【出 处】
:
润滑与密封
【发表日期】
:
2006年8期
【关键词】
:
三波长
光干涉法
薄膜测量
磁头
three-wavelength optical interferometric method thin film mea
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给出三波长光干涉测量纳米级薄膜厚度的方法。通过对某负压磁头/玻璃盘空气薄膜的测试表明:三波长光干涉法具有精度高、容易实施等优点,能够满足磁盘/磁头润滑副设计、制造及研究的需要。
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