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<正> 用腐蚀复印图形是微电子生产的一个组成部分。化学(湿法)腐蚀是最早的刻蚀技术,它有一定的局限性,包括掩模与衬底的附着力差,缺乏各向异性的化学性质,因而不能复印微米或亚微米尺寸的拓朴元件。还有腐蚀液难于渗入狭窄的、高纵横比的拓朴元
等离子腐蚀技术
【摘 要】
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<正> 用腐蚀复印图形是微电子生产的一个组成部分。化学(湿法)腐蚀是最早的刻蚀技术,它有一定的局限性,包括掩模与衬底的附着力差,缺乏各向异性的化学性质,因而不能复印微米
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1991年4期
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