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本文报导了低能高电荷态Ar^q＋（q=12，13）离子诱发的钼L壳层x射线强度随入射粒子能量的变化趋势，研究表明当入射粒子能量高于220keV时，钼L壳层x射线强度有明显增加的的趋势．同时，我们提出了一个简单的模型去估计这种趋势随入射能量的变化．模型计算的结果与实验值符合的比较好．
低能高电荷态Ar^q＋（q=12，13）离子诱发钼L壳层X射线强度的研究
【摘 要】
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本文报导了低能高电荷态Ar^q＋（q=12，13）离子诱发的钼L壳层x射线强度随入射粒子能量的变化趋势，研究表明当入射粒子能量高于220keV时，钼L壳层x射线强度有明显增加的的趋势．同时，我们提
【机 构】
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兰州大学核科学与技术学院,中国科学院近代物理研究所,成阳师范学院
【出 处】
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原子与分子物理学报
【发表日期】
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2007年4期
【基金项目】
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科技部基金（2002CCA00900）,国家自然科学基金（10374039）,省自然科学基金（ZS031-S25-001Z）,博士点基金（20030730004）
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